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超音波局部除塵設備
CS-1
高壓
超音波
非接觸
# 局部
# 半導體
# CMOS、CCD
袖珍型客製化除塵頭
一次吹拂即可清潔整體基材
有效面積(範例)
左(6mm×4mm)
右(16mm×16mm)
01
結構圖
02
應用(範例)
半導體
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總公司、工廠/OSAKA
TEL
81-6-6553-1062
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